冈崎晶圆加热器

冈崎晶圆加热器薄膜沉积CVD设备用加热系统由上海利布迪公司提供

利布迪公司为半导体行业的各种晶圆加工应用提供糕端加热解决方案，包括薄膜沉积系统（例如 CVD、PVD、ALD）。我们与国外合作，提供矿物绝缘晶圆加热器（也称为基板加热器或压板加热器），适用于关键条件，其规格可满足这些工艺的特殊和多样化需求。玩全定制的基板加热器通常是最佳解决方案，但我们也提供一系列标准盘式加热器。无论客户选择什么，我们的产品和建议都可以依靠，通过确保最佳的温度均匀性来提高整体工艺稳定性。

冈崎晶圆加热器的用途是什么？

晶圆加热器主要用于薄膜沉积系统，特别是在半导体行业，但也用于太阳能电池板、纳米技术、薄膜沉积系统以及光刻、退火和光学器件行业。在这些真空工艺中，超薄（有时只有几个原子厚）涂层在真空中涂覆在表面上。有多种技术可供选择，所有这些技术都需要不同的基材加热元件，其特性和设计都与工作温度和沉积材料类型相匹配。我们的对夹式加热器用于以下工艺：

· ALD（原子层沉积）200°C 至 400°C

· CVD（化学气相沉积）高于900°C

· PVD（物理气相沉积）200°C 至 400°C

· PLD（脉冲激光沉积）500°C

· PECVD（等离子体增强化学气相沉积）200°C 至 400°C

· 溅射（通过用高能颗粒轰击基板进行镀膜）350°C

晶圆加热器可以直接影响沉积薄膜的性能，包括对附着力和化学反应的影响。它们对于确保加热均匀性以均匀沉积薄膜至关重要。

对夹式加热器的类型

（矿物绝缘）晶圆加热器的选择取决于所需的应用。由于薄膜沉积工艺的高度专业化和关键性，我们的加热解决方案经常进行定制，以考虑所有工艺参数和所需的最终结果。我们的重点是以下类别的加热器：

· 一系列标准盘式加热器

o 直径从5厘米到16厘米不等

o 提供通用支架，允许客户将圆盘拧入或焊接到其特定夹具中

· 定制基板/压板加热器

o 与客户共同设计，在尺寸、形状、护套材料等因素方面玩全适合应用环境

无论您在利布迪公司选择哪种加热器，我们产品的高质量和顾问的专业知识都意味着可以确保热均匀性，这对薄膜沉积系统至关重要。

规格和物理性能

为了确保晶圆加热器能够玩美地适应每种应用，利布迪和/或美国专家将考虑许多变量和规格：

· 不同类型的基板加热元件具有各种（可定制的）形状、尺寸和长度。

· 电气连接是密封的。密封件的选择取决于真空度和化学品/污染物的存在。

· 生产后使用氦气泄漏检查确保真空完整性

· 真空法兰（“O”形圈）可用于连接真空外部的电源和传感器电缆。在这方面，我们的金属-陶瓷加热连接器也是值得考虑的有用配件。

· 热和冷热部分可定制。

· 可以提供焊接的外护套，以最大限度地减少危险环境中的污染。例如，不锈钢或Inconel 600。

· 可以包括内部热电偶，以精确监测产生的热量。

所有这些可能性意味着我们可以提供耐氧化、惰性、还原和（高）真空环境的晶圆加热器。我们的矿物绝缘晶圆加热器具有非常宽的温度范围，使其适用于所有沉积工艺，甚至高达1000°C。 此外，由于采用了护套，对夹加热器具有出色的机械强度，响应速度快。加热器遵守严格的质量测试要求。

利布迪的质量和服务

利布迪的晶圆加热器系列由美国生产。他们在供热领域拥有数十年的经验，是我们最长期的合作伙伴之一。利布迪与美国ARi建立了合作伙伴关系，确保为设计定制加热解决方案或调整电流范围以满足特定应用的需求提供全面的技术支持。

事实上，利布迪为岭先的半导体设备公司供货的原因之一是因为我们积极支持开发新的和定制的加热产品。具体到基板加热器，温度均匀性至关重要，美国工厂的研究是持续的，热均匀性解决方案（例如多区域或定制基板散热器）不断改进。
https://www.chem17.com/st582684/product_38233123.html
http://www.libudi.com.cn/SonList-2498855.html